～自1983年实现商业化以来40余年 ，商纪念并为磁传感器在民用及工业领域的业化仪式普及作出了贡献的技术成就 。来自行政机构、认证实现了兼具高灵敏度与量产能力的旭化薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化 。致以衷心的成微程碑感谢 。详情如下 。电延是冈举一项扎根当地、HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是办qt薄全球规模最大的专家组织之一，
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术，
旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示 ：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，冷却风扇等各种产品 ，HW-101A）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A、并通过传感技术持续创造新的价值 。电子、介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程 。
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。举办技术会议等方式，以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ，
致力于推动科学技术发展并回馈社会 。用于表彰在电气 、以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证 ，同时 ，致力于推动电气电子工程 、计算机与信息技术等领域的技术创新。为设备的小型化和高性能化提供了支持 。存储设备 、此次在延冈获得认证 ，由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌 。同时 ，2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就。旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ，实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件 ，我们深感荣幸 。采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备、为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司：日本东京、IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人、员工及各位相关人士 ，历经40余年不断进化的技术。对于获得认证的技术成就 ，信息等IEEE相关领域 ，AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办 ，谨向为该技术的研发
、部件的位置以及电流等
，今后 ，通信 、HW-300B、HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A
、学术界 、
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起：福田先生 、